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3um鑽石拋光液檢測結果
1.樣品基本情況：

樣品名稱	鑽石拋光液
生產廠家	某科技企業有限公司
規格	W-PC-3P  3Micro
批號	20090825
數量	0.5L

 
2. 介質類型：水性
3. 細微性：平均值3.5um；
4. 含固量：0.3 %
5. 紅外光譜檢測：取介質進行紅外檢測，譜圖如下：                                                                                                                         


6. 金剛石顆粒掃描電鏡圖片：                                                                                                                                      

 
7. 拋光液粘度曲線：                                                                                                                                                 

8. 晶體結構分析
對金剛石顆粒進行XRD分析，譜圖如下：                                                                                                                                  
                                分析：從金剛石肩峰可以看出是多晶結構。
 
9. 磨削試驗
   研磨條件

研磨材料	研磨盤 材質	上壓力（kg）	TIME	PLATE	SPIN	OSC	ON	OFF
藍寶石晶片	銅盤	21	10	80	200	70	10	3

  研磨結果：

平均去除率（um/10min）	Ra（um）
5.4	0.004

 








 6um鑽石拋光液檢測結果
1.樣品基本情況：

樣品名稱	鑽石拋光液
生產廠家	某科技企業有限公司
規格	OP102A-NEW  6um
批號	2008-07-10
數量	0.5L

 
2. 介質類型：油性
3. 細微性：平均值6um；
4.含固量：0.6%（油性研磨液乾燥效果不好，誤差較大）
5. 紅外光譜檢測：取介質進行紅外檢測，譜圖如下：

 
6. 金剛石顆粒掃描電鏡圖片：                                                                                                                                 

   
7. 拋光液粘度曲線：                                                                                                                                             

單位：mPa﹒S
8. 晶體結構分析
對金剛石顆粒進行XRD分析，譜圖如下：

                                                                                             分析：從金剛石肩峰可以看出是多晶結構。
9. 磨削試驗
   研磨條件

研磨材料	研磨盤 材質	上壓力（kg）	TIME	PLATE	SPIN	OSC	ON	OFF
藍寶石晶片	銅盤	21	10	80	200	70	10	3

  研磨結果：

平均去除率（um/10min）	Ra（um）
10.6	0.004